半導体清浄度ソリューション
- 出所:
- 出品日時:2021-08-27 18:11
- PV:
【概要の説明】半導体用チップのコア技術である線幅寸法の縮小に伴い、初期のミクロン(μm)レベルから現在のナノ(nm)レベルに発展し、チップ製造がクリーン度に対する要求はますます高まっています。製造において空気のクリーン度が基準に達しなければ、製品の歩留まりに大きな影響をもたらします。単結晶シリコンチップの製造からICの製造およびパッケージングに至るまで、集積回路産業チェーンの作業の大多数は、クリーンルームで完成しなければならないため、クリーン度に対する要求が非常に高いです。クリーンルームのクリーン度を一定のレベルに保つために、半導体クリーンルームでは通常、垂直・単一方向流の方式を採用し、汚染された空気を室外に排出することで、室内の空気を浄化できます。 美埃は大手チップと液晶パネルを取り扱っている国内大手メーカーとして、清浄要求を満たし、高効率、低消費電力、低ノイズの空気清浄製品を提供しています。
半導体清浄度ソリューション
【概要の説明】半導体用チップのコア技術である線幅寸法の縮小に伴い、初期のミクロン(μm)レベルから現在のナノ(nm)レベルに発展し、チップ製造がクリーン度に対する要求はますます高まっています。製造において空気のクリーン度が基準に達しなければ、製品の歩留まりに大きな影響をもたらします。単結晶シリコンチップの製造からICの製造およびパッケージングに至るまで、集積回路産業チェーンの作業の大多数は、クリーンルームで完成しなければならないため、クリーン度に対する要求が非常に高いです。クリーンルームのクリーン度を一定のレベルに保つために、半導体クリーンルームでは通常、垂直・単一方向流の方式を採用し、汚染された空気を室外に排出することで、室内の空気を浄化できます。 美埃は大手チップと液晶パネルを取り扱っている国内大手メーカーとして、清浄要求を満たし、高効率、低消費電力、低ノイズの空気清浄製品を提供しています。
- カテゴリ:ソリューション
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- 出所:
- 出品日時:2021-08-27 18:11
- PV:
半導体清浄度ソリューション
半導体用チップのコア技術である線幅寸法の縮小に伴い、初期のミクロン(μm)レベルから現在のナノ(nm)レベルに発展し、チップ製造がクリーン度に対する要求はますます高まっています。製造において空気のクリーン度が基準に達しなければ、製品の歩留まりに大きな影響をもたらします。単結晶シリコンチップの製造からICの製造およびパッケージングに至るまで、集積回路産業チェーンの作業の大多数は、クリーンルームで完成しなければならないため、クリーン度に対する要求が非常に高いです。クリーンルームのクリーン度を一定のレベルに保つために、半導体クリーンルームでは通常、垂直・単一方向流の方式を採用し、汚染された空気を室外に排出することで、室内の空気を浄化できます。 美埃は大手チップと液晶パネルを取り扱っている国内大手メーカーとして、清浄要求を満たし、高効率、低消費電力、低ノイズの空気清浄製品を提供しています。
半導体または液晶パネル工場の天井にFFUを多数敷設することにより垂直・単一方向流を実現します。また、半導体製造装置のより厳しい制御基準を満たすために、一部の区域の装置端ではマクロな気圧制御を実現させ、又は装置端でEFUを取り付けることで装置エリアの清浄度を厳しくコントロールします。
また、製造プロセスの改善・更新に伴い、粒子状物質の制御だけではもはや歩留まりを向上させることができなくなり、気体分子汚染物AMC(Airborne Molecular Contamination)の制御技術は半導体の歩留まり向上に必要な手段となっています。
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