MayAir【美埃(中国)環境科技股份有限公司】の日本法人として、2020年設立された会社
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如何保护数据中心免受污染与腐蚀?

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  • 出品日時:2022-04-29 17:57
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【概要の説明】ASHRAE TC9.9-2011美国采暖、制冷和空调工程师技术委员会指出,针对于数据中心行业,建议的运行环境需达到ISO14644-1标准中的ISO8级的清洁等级要求,化学气体污染物应控制在G1范围内。而无空调机组设备的数据中心,可选用MERV8级别的灰尘过滤器循环过滤室内空气,进入数据中心的新风需选用MERV11或MERV13级别的灰尘过滤器,实现ISO8级洁净等级。   超标的气体污染物不仅对人体健康造成影响,其中的硫化氢、硫氧化物,甚至臭氧在内的许多酸性气体和污染物,很容易渗入空调服务器机房数据中心/控制室、开关设备机房、过程控制和信号/配电室,对精密设备造成腐蚀,影响过程控制设备的操作能力、可靠性和寿命,导致维修费用和计划外停机成本增加。 保护系统免受腐蚀气体的侵害,如何实现?   数据中心选址   数据中心选址是影响机房空气品质的关键因素之一,研究表明,城市工业区的含尘浓度远高于市区及市郊。因此,选址应该选择远离铁路、码头、飞机场、化工厂等会散发大量粉尘及有毒有害气体的区域。   机房室内正压控制   为防止机房外部未处理的空气渗入机房室内,室内空气状态及洁净度,需要保证机房处于一定的正压状态,即机房内的空气压力保持高于邻区的空气压力。   室内设置高效的空气过滤系统   机房内是一个相对封闭的环境,人员的进出、设备的搬运和运转都会产生污染物颗粒,室内循环空气会因此受到污染,因此高效率的空气过滤系统是保证空气品质的重要途径。 案例介绍 | 山东省某银行数据中心腐蚀控制   | 背景介绍   此数据中心的空调系统在初期设计没考虑将数据中心规划成在跟外界成相对正压的状态,数据中心目前都处于负压状态,以致外面腐蚀性气体从多方面如门缝,穿墙管道,伸缩缝,电控柜出线处向内泄入室内。虽然经过先前一些简单处理,但显然并不足够,所以密封效果不理想。   | 解决方案   通过技术人员的现场勘查,美埃的解决方案是使用多台IRU气态化学净化设备进行室内的循环送风的净化处理。每台设备也配置美埃干性化学滤料(PM810),以及初中效过滤器,安装在银行的两个主要机房。此系统通过对室内持续进行过滤,从而保证在各种工业环境下的室内腐蚀性气体含量均能保持在安全水平之下。   PM810干性化学滤料是根据一定的比例配制而成的。主要去除的目标污染物是碳氢化合物、硫酸氧化物、一氧化碳、硫化氢等。使用美埃配制的PM810滤料可有效吸收99.5%以上的气体污染物。为了保证滤料寿命,用户可以定期对PM810滤料样品进行测试以测定滤料的寿命以及维护时间。   综上所述,空气过滤器的合理应用可有效降低数据中心受到腐蚀气体侵害的风险。

如何保护数据中心免受污染与腐蚀?

【概要の説明】ASHRAE TC9.9-2011美国采暖、制冷和空调工程师技术委员会指出,针对于数据中心行业,建议的运行环境需达到ISO14644-1标准中的ISO8级的清洁等级要求,化学气体污染物应控制在G1范围内。而无空调机组设备的数据中心,可选用MERV8级别的灰尘过滤器循环过滤室内空气,进入数据中心的新风需选用MERV11或MERV13级别的灰尘过滤器,实现ISO8级洁净等级。



  超标的气体污染物不仅对人体健康造成影响,其中的硫化氢、硫氧化物,甚至臭氧在内的许多酸性气体和污染物,很容易渗入空调服务器机房数据中心/控制室、开关设备机房、过程控制和信号/配电室,对精密设备造成腐蚀,影响过程控制设备的操作能力、可靠性和寿命,导致维修费用和计划外停机成本增加。



保护系统免受腐蚀气体的侵害,如何实现?

  数据中心选址

  数据中心选址是影响机房空气品质的关键因素之一,研究表明,城市工业区的含尘浓度远高于市区及市郊。因此,选址应该选择远离铁路、码头、飞机场、化工厂等会散发大量粉尘及有毒有害气体的区域。

  机房室内正压控制

  为防止机房外部未处理的空气渗入机房室内,室内空气状态及洁净度,需要保证机房处于一定的正压状态,即机房内的空气压力保持高于邻区的空气压力。

  室内设置高效的空气过滤系统

  机房内是一个相对封闭的环境,人员的进出、设备的搬运和运转都会产生污染物颗粒,室内循环空气会因此受到污染,因此高效率的空气过滤系统是保证空气品质的重要途径。



案例介绍 | 山东省某银行数据中心腐蚀控制

  | 背景介绍

  此数据中心的空调系统在初期设计没考虑将数据中心规划成在跟外界成相对正压的状态,数据中心目前都处于负压状态,以致外面腐蚀性气体从多方面如门缝,穿墙管道,伸缩缝,电控柜出线处向内泄入室内。虽然经过先前一些简单处理,但显然并不足够,所以密封效果不理想。

  | 解决方案

  通过技术人员的现场勘查,美埃的解决方案是使用多台IRU气态化学净化设备进行室内的循环送风的净化处理。每台设备也配置美埃干性化学滤料(PM810),以及初中效过滤器,安装在银行的两个主要机房。此系统通过对室内持续进行过滤,从而保证在各种工业环境下的室内腐蚀性气体含量均能保持在安全水平之下。

  PM810干性化学滤料是根据一定的比例配制而成的。主要去除的目标污染物是碳氢化合物、硫酸氧化物、一氧化碳、硫化氢等。使用美埃配制的PM810滤料可有效吸收99.5%以上的气体污染物。为了保证滤料寿命,用户可以定期对PM810滤料样品进行测试以测定滤料的寿命以及维护时间。



  综上所述,空气过滤器的合理应用可有效降低数据中心受到腐蚀气体侵害的风险。

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  ASHRAE TC9.9-2011美国采暖、制冷和空调工程师技术委员会指出,针对于数据中心行业,建议的运行环境需达到ISO14644-1标准中的ISO8级的清洁等级要求,化学气体污染物应控制在G1范围内。而无空调机组设备的数据中心,可选用MERV8级别的灰尘过滤器循环过滤室内空气,进入数据中心的新风需选用MERV11或MERV13级别的灰尘过滤器,实现ISO8级洁净等级。

  超标的气体污染物不仅对人体健康造成影响,其中的硫化氢、硫氧化物,甚至臭氧在内的许多酸性气体和污染物,很容易渗入空调服务器机房数据中心/控制室、开关设备机房、过程控制和信号/配电室,对精密设备造成腐蚀,影响过程控制设备的操作能力、可靠性和寿命,导致维修费用和计划外停机成本增加。

保护系统免受腐蚀气体的侵害,如何实现?

  数据中心选址

  数据中心选址是影响机房空气品质的关键因素之一,研究表明,城市工业区的含尘浓度远高于市区及市郊。因此,选址应该选择远离铁路、码头、飞机场、化工厂等会散发大量粉尘及有毒有害气体的区域。

  机房室内正压控制

  为防止机房外部未处理的空气渗入机房室内,室内空气状态及洁净度,需要保证机房处于一定的正压状态,即机房内的空气压力保持高于邻区的空气压力。

  室内设置高效的空气过滤系统

  机房内是一个相对封闭的环境,人员的进出、设备的搬运和运转都会产生污染物颗粒,室内循环空气会因此受到污染,因此高效率的空气过滤系统是保证空气品质的重要途径。

案例介绍 | 山东省某银行数据中心腐蚀控制

  | 背景介绍

  此数据中心的空调系统在初期设计没考虑将数据中心规划成在跟外界成相对正压的状态,数据中心目前都处于负压状态,以致外面腐蚀性气体从多方面如门缝,穿墙管道,伸缩缝,电控柜出线处向内泄入室内。虽然经过先前一些简单处理,但显然并不足够,所以密封效果不理想。

  | 解决方案

  通过技术人员的现场勘查,美埃的解决方案是使用多台IRU气态化学净化设备进行室内的循环送风的净化处理。每台设备也配置美埃干性化学滤料(PM810),以及初中效过滤器,安装在银行的两个主要机房。此系统通过对室内持续进行过滤,从而保证在各种工业环境下的室内腐蚀性气体含量均能保持在安全水平之下。

  PM810干性化学滤料是根据一定的比例配制而成的。主要去除的目标污染物是碳氢化合物、硫酸氧化物、一氧化碳、硫化氢等。使用美埃配制的PM810滤料可有效吸收99.5%以上的气体污染物。为了保证滤料寿命,用户可以定期对PM810滤料样品进行测试以测定滤料的寿命以及维护时间。

  综上所述,空气过滤器的合理应用可有效降低数据中心受到腐蚀气体侵害的风险。

丨関連情報

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

過去50年間に、集積回路のコアテクノロジーは1971年の10マイクロメートル(μm)から現在の7ナノメートル(nm)に大幅に縮小し、さらに3nmノードにまで実現する可能性もあります。半導体ウェーハの重要な寸法は徐々に小型化されるにつれ、クリーンルーム環境の清浄度に対する要求も厳しくなっています。ガス状分子汚染物質(AMC)は、工業プロセスの生産性に影響を与える要因の1つとして、粒子状汚染物質に徐々に取って代わっています。 AMCは、多くの潜在的なプロセス上の問題を引き起こすおそれがあります。たとえば、酸性ガス(MA)は、腐食性があるので、ウェーハ上の金属膜を侵食し、ピット、オープンライン、短絡、漏電などを引き起こします。そして、アルカリガス(MB)としてのアンモニアガスはリソグラフィパターン欠陥、及び フォトレジストラインの上部にTトッピングになることを招きます。凝縮性有機ガス(MC)がシリコンウェーハの表面に付着しがちになり、薄膜と表面分子汚染(SMC)を形成させ、フォトレジスト層、スパッタ層、PVD層またはCVD層にはサンドイッチ構造を形成させます。 さらに、シリコン、リン、ホウ素などを含む揮発性VOC(シロキサン、有機リン酸塩など)は、シリコンウェーハの表面、リソグラフィーレンズまたはリソグラフィープレートにしっかりと吸着されたら、それを除去することが困難になる、又はまったく除去できないので、リソグラフィーエンジニアによって処理困難の難治性化合物(refractory compound)と呼ばれています。 有機リン酸塩などのドーピングガス(MD)は、シリコンウェーハの表面に吸着され、加熱後、無機リン酸塩に分解されてドーパントに生成され、望ましくないn型ドーピングと電圧ドリフトをよく引き起こします。 半導体の製造工程には精密なマイクロエレクトロニクスシステムやICが含まれており、製造環境の清浄度に対する要求は特に厳しいので、製造工程全体は厳密に管理された環境条件、つまりクリーンルームの中に行われています。 クリーンルームの清浄度を維持するために、半導体クリーンワークショップでは通常、垂直・単一方向フロー方式を利用して、押し出し作用によって汚染された空気を室外に排出することで、室内空気を浄化することができます。 クリーンルームの空気清浄は、主に以下の3つの段階に分けられます。最初の段階では空調ボックス内のプレフィルター、ジュニア効率フィルター、シニア効率フィルター、薬剤フィルターを介して、屋外からの空気を段階的にろ過し、異物、浮遊物、直径0.3μmを超える粒子、および大気中の化学汚染物質を段階的に除去しています。 第二段階では、ファンフィルターユニットと、内蔵式(または外付け)のシニア効率、超シニア効率フィルター、および薬剤フィルター(プロセス上必要な場合)を介して、クリーンルーにに安定した空気層流を押し出し、クリーンルームの空気を極めて高い清浄度基準に浄化します。 第三段階では、クリーンルームの還気は、上げ床と給気ダクト(または還気管)を通ってファンフィルターユニットに送られ、シニア効率、超シニア効率フィルター、薬剤フィルターで濾過されて、リサイクルのためにクリーンルームに送られます。 MayAir半導体クリーンワークショップの主な構造と主な製品の運用プロセスの概略図は次のとおりです。 外気は、多段式エアフィルター(No.1〜4)で段階的にろ過された後、クリーンルームの内部循環系に入ります。 その後、シニア効率・超シニア効率フィルターとオプションの薬剤フィルター(No.5、6、7)を備えたファンフィルターユニットを介して、安定した層流でクリーンルーム内に清浄な空気を送ります。ファンフィルターユニットの中断しない動作によって作業エリアの清浄度を維持します。 特定の機器又は清浄度要求が比較的に高い作業エリアでは、浄化ブースとEFU(No.8、9)の組み合わせによりクリーンルーム内の空気をさらに浄化し、より高いレベルの局所清浄度を実現します。 MayAirは2005年に成都smicsの独自ブランドのFFU注文を初めて受けて以来、中国の半導体産業の発展を何度も支援しており、ハイエンドのクリーンルームの分野で重要な位置を占めています。
Date : 2021-07-22 点击 : 0

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