项目背景

　　浙江某半导体设计及制造企业，总部位于杭州，专注于存储芯片及相关芯片的设计、制造，面向物联网、智传终端、工业控制及汽车电子领域提供半导体芯片和应用解决方案。

　　芯片制造随着线宽的降低，工艺更复杂，工序更繁琐，使用的化学品种类更多。很多关键工艺(如光刻工艺)需要在特定的洁净环境下进行。除了控制常规的悬浮颗粒污染物(TSP)的浓度，还需对洁净室内直径更小的气态分子污染物(AMC)浓度进行严格控制。且在特定区域(如黄光区)还需额外注意一些难溶化合物(Refractory Compounds，RC)的管控，以确保光刻机的镜头处于良好的使用环境。

　　对AMC的定义及分类

　　工业洁净厂房送风一般为新风空调箱补给及循环风供应，为了控制AMC的浓度，一般会在循环风系统中的风机过滤单元(FFU)上安装化学过滤器，对洁净厂房内特定区域进行相关空气治理。本次案例为改造案例，洁净室内黄光区FFU上已安装一片式化学过滤器，用于去除酸性化合物，碱性化合物及可凝结化合物。由于业务扩展因素，增加光刻机两台，并需对洁净室内难溶化合物(RC)进行重点管控。

　　产品介绍

　　美埃提供了该项目现场AMC采样服务，了解到实际浓度后，在现有FFU化学过滤器产品上再搭载RC化合物去除专用过滤器Puro-F 。

　　Puro-F化学过滤器外观图

　　化滤安装前后RC检测浓度对比

　　安装后，经第三方检测机构采样，成功将洁净室该区域RC化合物的浓度控制到0.1ppbv以下。且经过第三方检测机构对该区域RC化学物浓度的持续监测，该RC化学过滤器产品使用周期超出业主预计值三倍，达到了过滤行业领先水平。

　　化学过滤器安装前RC浓度(第三方报告)