MayAir【美埃(中国)環境科技股份有限公司】の日本法人として、2020年設立された会社
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应用篇|美埃化滤精耕多年助力中国半导体龙头企业

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  • 出品日時:2021-08-18 10:52
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【概要の説明】助力中国“芯”的发展。

应用篇|美埃化滤精耕多年助力中国半导体龙头企业

【概要の説明】助力中国“芯”的发展。

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  根据国际半导体产业协会SEMI指出,2020年12寸晶圆厂设备支出投资较去年成长16%,预测2021 年将维持16%的增速,2022 年将再增长12%超800 亿美元。因新冠病毒疫情加速全球数字转型的推动下,并且随着5G、电动汽车、智能穿戴设备的普及化,未来对晶片的需求将会迎来井喷式的需求上涨。

  从2018年开始,中美一路从贸易战打到科技战,中国发展半导体行业的挑战重重。然而,半导体行业发展除了拥有提升自主研发核心技术及制造工艺以外,还需要考虑基础硬件设施和建设等因素。在众多环节中,建设及维护半导体制程所必须的洁净厂房就显得至关重要了,除了需要让洁净室维持在恒温、恒湿、超洁净的无尘环境下,关键工艺区域还需要考虑气态污染物AMC的影响。

  AMC的分类

  随着制程工艺的不断升级迭代,单靠控制颗粒物已无法再提高良率,气态分子污染物AMC(Airborne Molecular Contamination)的控制技术已经成为半导体良率提升的必要手段。从2005年开始,美埃气态过滤事业部一直致力服务于中国大陆的晶圆厂,其中就包括国内某龙头集成电路制造企业。

  该企业成立于2000年,是中国内地配套完善的跨国经营集成电路制造企业,能提供0.35微米到14纳米不同技术节点的晶圆代工与技术服务,包括逻辑芯片,混合信号/射频收发芯片,耐高压芯片,系统芯片,闪存芯片,EEPROM芯片,图像传感器芯片电源管理,微型机电系统等。

  伴随着该企业生产的晶圆关键线宽尺寸从0.35微米缩减到14纳米节点,工作区域的空气质量稍有偏差都会直接影响产品的良率,对于AMC的控制要求可谓越来越苛刻, 各区域环境AMC浓度都设有严格的管控指标并进行长期的监控,而美埃也一直为客户的洁净室AMC控制护航,满足客户的要求。

  通过十多年来与该客户的合作,配合芯片国产化的国家战略,美埃化滤事业部也一直精耕化学过滤器的产品研发,通过增大资本开销投入产品研发技术、加强产品在节能、降噪、减排方面的性能和指标,并满足客户群对洁净环境达标所需要的条件,促使产能提升、产品质量更优化,以期实现同客户一同成长,助力“中国芯”的发展。

丨関連情報

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

過去50年間に、集積回路のコアテクノロジーは1971年の10マイクロメートル(μm)から現在の7ナノメートル(nm)に大幅に縮小し、さらに3nmノードにまで実現する可能性もあります。半導体ウェーハの重要な寸法は徐々に小型化されるにつれ、クリーンルーム環境の清浄度に対する要求も厳しくなっています。ガス状分子汚染物質(AMC)は、工業プロセスの生産性に影響を与える要因の1つとして、粒子状汚染物質に徐々に取って代わっています。 AMCは、多くの潜在的なプロセス上の問題を引き起こすおそれがあります。たとえば、酸性ガス(MA)は、腐食性があるので、ウェーハ上の金属膜を侵食し、ピット、オープンライン、短絡、漏電などを引き起こします。そして、アルカリガス(MB)としてのアンモニアガスはリソグラフィパターン欠陥、及び フォトレジストラインの上部にTトッピングになることを招きます。凝縮性有機ガス(MC)がシリコンウェーハの表面に付着しがちになり、薄膜と表面分子汚染(SMC)を形成させ、フォトレジスト層、スパッタ層、PVD層またはCVD層にはサンドイッチ構造を形成させます。 さらに、シリコン、リン、ホウ素などを含む揮発性VOC(シロキサン、有機リン酸塩など)は、シリコンウェーハの表面、リソグラフィーレンズまたはリソグラフィープレートにしっかりと吸着されたら、それを除去することが困難になる、又はまったく除去できないので、リソグラフィーエンジニアによって処理困難の難治性化合物(refractory compound)と呼ばれています。 有機リン酸塩などのドーピングガス(MD)は、シリコンウェーハの表面に吸着され、加熱後、無機リン酸塩に分解されてドーパントに生成され、望ましくないn型ドーピングと電圧ドリフトをよく引き起こします。 半導体の製造工程には精密なマイクロエレクトロニクスシステムやICが含まれており、製造環境の清浄度に対する要求は特に厳しいので、製造工程全体は厳密に管理された環境条件、つまりクリーンルームの中に行われています。 クリーンルームの清浄度を維持するために、半導体クリーンワークショップでは通常、垂直・単一方向フロー方式を利用して、押し出し作用によって汚染された空気を室外に排出することで、室内空気を浄化することができます。 クリーンルームの空気清浄は、主に以下の3つの段階に分けられます。最初の段階では空調ボックス内のプレフィルター、ジュニア効率フィルター、シニア効率フィルター、薬剤フィルターを介して、屋外からの空気を段階的にろ過し、異物、浮遊物、直径0.3μmを超える粒子、および大気中の化学汚染物質を段階的に除去しています。 第二段階では、ファンフィルターユニットと、内蔵式(または外付け)のシニア効率、超シニア効率フィルター、および薬剤フィルター(プロセス上必要な場合)を介して、クリーンルーにに安定した空気層流を押し出し、クリーンルームの空気を極めて高い清浄度基準に浄化します。 第三段階では、クリーンルームの還気は、上げ床と給気ダクト(または還気管)を通ってファンフィルターユニットに送られ、シニア効率、超シニア効率フィルター、薬剤フィルターで濾過されて、リサイクルのためにクリーンルームに送られます。 MayAir半導体クリーンワークショップの主な構造と主な製品の運用プロセスの概略図は次のとおりです。 外気は、多段式エアフィルター(No.1〜4)で段階的にろ過された後、クリーンルームの内部循環系に入ります。 その後、シニア効率・超シニア効率フィルターとオプションの薬剤フィルター(No.5、6、7)を備えたファンフィルターユニットを介して、安定した層流でクリーンルーム内に清浄な空気を送ります。ファンフィルターユニットの中断しない動作によって作業エリアの清浄度を維持します。 特定の機器又は清浄度要求が比較的に高い作業エリアでは、浄化ブースとEFU(No.8、9)の組み合わせによりクリーンルーム内の空気をさらに浄化し、より高いレベルの局所清浄度を実現します。 MayAirは2005年に成都smicsの独自ブランドのFFU注文を初めて受けて以来、中国の半導体産業の発展を何度も支援しており、ハイエンドのクリーンルームの分野で重要な位置を占めています。
Date : 2021-07-22 点击 : 0

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