MayAir【美埃(中国)環境科技股份有限公司】の日本法人として、2020年設立された会社
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CAHVAC专家一行走进美埃

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  • 出品日時:2021-05-30 21:09
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【概要の説明】2021年3月23日,CAHVAC净化专委会名誉主任、同济大学沈晋明教授,净化专委会主任委员、同济大学刘燕敏教授,王东青秘书长等专家一行来到美埃(中国)环境科技股份有限公司。美埃CEO叶伟强先生,技术总经理陈玲女士等陪同接待了到访专家。

CAHVAC专家一行走进美埃

【概要の説明】2021年3月23日,CAHVAC净化专委会名誉主任、同济大学沈晋明教授,净化专委会主任委员、同济大学刘燕敏教授,王东青秘书长等专家一行来到美埃(中国)环境科技股份有限公司。美埃CEO叶伟强先生,技术总经理陈玲女士等陪同接待了到访专家。

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  2021年3月23日,CAHVAC净化专委会名誉主任、同济大学沈晋明教授,净化专委会主任委员、同济大学刘燕敏教授,王东青秘书长等专家一行来到美埃(中国)环境科技股份有限公司。美埃总经理叶伟强先生,技术总经理陈玲女士等陪同接待了到访专家。

 

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图1 嘉宾合影

 

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图2 座谈交流

 

  在座谈交流中,叶伟强先生首先对CAHVAC专家一行的到来表示热烈的欢迎,并重点介绍了美埃公司专注的业务领域和未来的发展方向。美埃公司自 2001 年成立以来,立足中国市场,将工业级超洁净技术应用到商用和民用领域,从进气到排气,从过滤单元配套到整机设备到系统集成,持续创新,以满足不断增长的空气洁净产品需求。公司在中国和马来西亚共有6个生产基地。主营业务包括空气净化产品、大气环境治理产品的研发、生产及销售。产品主要应用于洁净室空气净化,也广泛应用于暖通空调系统空气净化。拥有FFU(FAN FILTER UNIT)节能降噪和系统集成技术、超高效过滤技术、基于物理/化学吸附的活性炭吸附技术、催化氧化分解除VOCs技术、离子交换吸附技术、油雾离心分离技术、计算流体力学模拟(CFD仿真)技术等多项核心技术。专家们对于美埃在半导体、医疗机构、生物制药、食品、汽车涂装、大型商用楼宇、公共场所、家居环境等应用领域取得的成绩给予了充分肯定。

  随后,陈玲技术总经理陪同专家先后参观了美埃公司产品展示厅、研发实验室及生产车间,介绍了美埃公司在技术研发、产品测试、质量管理、生产工艺等方面的情况。

 

  在座谈交流中,叶伟强先生首先对CAHVAC专家一行的到来表示热烈的欢迎,并重点介绍了美埃公司专注的业务领域和未来的发展方向。美埃公司自 2001 年成立以来,立足中国市场,将工业级超洁净技术应用到商用和民用领域,从进气到排气,从过滤单元配套到整机设备到系统集成,持续创新,以满足不断增长的空气洁净产品需求。公司在中国和马来西亚共有6个生产基地。主营业务包括空气净化产品、大气环境治理产品的研发、生产及销售。产品主要应用于洁净室空气净化,也广泛应用于暖通空调系统空气净化。拥有FFU(FAN FILTER UNITS)节能降噪和系统集成技术、超高效过滤技术、基于物理/化学吸附的活性炭吸附技术、催化氧化分解除VOCs技术、离子交换吸附技术、油雾离心分离技术、计算流体力学模拟(CFD仿真)技术等多项核心技术。专家们对于美埃在半导体、医疗机构、生物制药、食品、汽车涂装、大型商用楼宇、公共场所、家居环境等应用领域取得的成绩给予了充分肯定。    随后,陈玲技术总经理陪同专家先后参观了美埃公司产品展示厅、研发实验室及生产车间,介绍了美埃公司在技术研发、产品测试、质量管理、生产工艺等方面的情况。

图3 参观展厅

 

图3 参观展厅

图4 研发实验室

 

图4 研发实验室

图5 测试中心

 

图6   美埃文化

图6   美埃文化

 

  美埃作为中国空气净化行业中的领先品牌,一步一个脚印,从专心到专注,致力于推动空气净化产业的发展,其企业文化建设也给专家们留下了深刻印象。随着半导体、航空航天、精密制造及医疗生物安全大健康产业的高速发展,拥有空气净化领域前沿生产技术、检测技术、制造设备及强大的研发队伍的美埃将行稳致远,更上层楼。

丨関連情報

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

過去50年間に、集積回路のコアテクノロジーは1971年の10マイクロメートル(μm)から現在の7ナノメートル(nm)に大幅に縮小し、さらに3nmノードにまで実現する可能性もあります。半導体ウェーハの重要な寸法は徐々に小型化されるにつれ、クリーンルーム環境の清浄度に対する要求も厳しくなっています。ガス状分子汚染物質(AMC)は、工業プロセスの生産性に影響を与える要因の1つとして、粒子状汚染物質に徐々に取って代わっています。 AMCは、多くの潜在的なプロセス上の問題を引き起こすおそれがあります。たとえば、酸性ガス(MA)は、腐食性があるので、ウェーハ上の金属膜を侵食し、ピット、オープンライン、短絡、漏電などを引き起こします。そして、アルカリガス(MB)としてのアンモニアガスはリソグラフィパターン欠陥、及び フォトレジストラインの上部にTトッピングになることを招きます。凝縮性有機ガス(MC)がシリコンウェーハの表面に付着しがちになり、薄膜と表面分子汚染(SMC)を形成させ、フォトレジスト層、スパッタ層、PVD層またはCVD層にはサンドイッチ構造を形成させます。 さらに、シリコン、リン、ホウ素などを含む揮発性VOC(シロキサン、有機リン酸塩など)は、シリコンウェーハの表面、リソグラフィーレンズまたはリソグラフィープレートにしっかりと吸着されたら、それを除去することが困難になる、又はまったく除去できないので、リソグラフィーエンジニアによって処理困難の難治性化合物(refractory compound)と呼ばれています。 有機リン酸塩などのドーピングガス(MD)は、シリコンウェーハの表面に吸着され、加熱後、無機リン酸塩に分解されてドーパントに生成され、望ましくないn型ドーピングと電圧ドリフトをよく引き起こします。 半導体の製造工程には精密なマイクロエレクトロニクスシステムやICが含まれており、製造環境の清浄度に対する要求は特に厳しいので、製造工程全体は厳密に管理された環境条件、つまりクリーンルームの中に行われています。 クリーンルームの清浄度を維持するために、半導体クリーンワークショップでは通常、垂直・単一方向フロー方式を利用して、押し出し作用によって汚染された空気を室外に排出することで、室内空気を浄化することができます。 クリーンルームの空気清浄は、主に以下の3つの段階に分けられます。最初の段階では空調ボックス内のプレフィルター、ジュニア効率フィルター、シニア効率フィルター、薬剤フィルターを介して、屋外からの空気を段階的にろ過し、異物、浮遊物、直径0.3μmを超える粒子、および大気中の化学汚染物質を段階的に除去しています。 第二段階では、ファンフィルターユニットと、内蔵式(または外付け)のシニア効率、超シニア効率フィルター、および薬剤フィルター(プロセス上必要な場合)を介して、クリーンルーにに安定した空気層流を押し出し、クリーンルームの空気を極めて高い清浄度基準に浄化します。 第三段階では、クリーンルームの還気は、上げ床と給気ダクト(または還気管)を通ってファンフィルターユニットに送られ、シニア効率、超シニア効率フィルター、薬剤フィルターで濾過されて、リサイクルのためにクリーンルームに送られます。 MayAir半導体クリーンワークショップの主な構造と主な製品の運用プロセスの概略図は次のとおりです。 外気は、多段式エアフィルター(No.1〜4)で段階的にろ過された後、クリーンルームの内部循環系に入ります。 その後、シニア効率・超シニア効率フィルターとオプションの薬剤フィルター(No.5、6、7)を備えたファンフィルターユニットを介して、安定した層流でクリーンルーム内に清浄な空気を送ります。ファンフィルターユニットの中断しない動作によって作業エリアの清浄度を維持します。 特定の機器又は清浄度要求が比較的に高い作業エリアでは、浄化ブースとEFU(No.8、9)の組み合わせによりクリーンルーム内の空気をさらに浄化し、より高いレベルの局所清浄度を実現します。 MayAirは2005年に成都smicsの独自ブランドのFFU注文を初めて受けて以来、中国の半導体産業の発展を何度も支援しており、ハイエンドのクリーンルームの分野で重要な位置を占めています。
Date : 2021-07-22 点击 : 0

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