MayAir【美埃(中国)環境科技股份有限公司】の日本法人として、2020年設立された会社
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北京IC WORLD活动总结

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  • 出品日時:2021-05-27 17:49
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【概要の説明】当前,我国集成电路产业正处在前所未有的大变局中,一方面数字经济、新基建正成为我国集成电路产业发展的重要驱动力,另一方面,复杂的外部产业环境变化也为我国集成电路产业带来全链突破、加速发展的历史性机遇。

北京IC WORLD活动总结

【概要の説明】当前,我国集成电路产业正处在前所未有的大变局中,一方面数字经济、新基建正成为我国集成电路产业发展的重要驱动力,另一方面,复杂的外部产业环境变化也为我国集成电路产业带来全链突破、加速发展的历史性机遇。

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  当前,我国集成电路产业正处在前所未有的大变局中,一方面数字经济、新基建正成为我国集成电路产业发展的重要驱动力,另一方面,复杂的外部产业环境变化也为我国集成电路产业带来全链突破、加速发展的历史性机遇。

  

美埃

 

  2020年11月18-19日,“2020北京微电子国际研讨会暨IC WORLD”学术会议”与北京半导体行业协会共同协办,并在北京亦庄顺利召开,集成电路相关领域的众多领导和工程师们到会进行热烈的演讲和交流,大会取得了丰硕的成果。

  美埃受邀参加并在分论坛(新基建下的智能化厂务)进行相关演讲。当日,美埃气态事业部销售总监曹国新先生及气态事业部化学技术支持黄秀琴女士前往参会。

  

美埃

 

  会议期间,曹国新先生进行了“气态污染物控制方案”的演讲,阐述了关于当今集成电路制造中对气态分析污染物的管控要求及美埃为满足制程需要提供的系统净化解决方案,并运用工作中一些具体案例结合欧美、国内等半导体和面板制造产业中的一些案例进行讲解,从而在半导体和面板行业的气态分子污染物的控制方面提供一些见解与解决方案以便相关人员参考。过程中,曹国新先生谈笑风生,娓娓道来,尽显美埃的专业风范,受到了各位业界人士的热烈响应及赞许。

  美埃配有专业的化学实验室,内设专业采样与分析仪器,可实施测试及监控程序 ,结合有效的定期定点的AMC检测,通过IC离子色谱仪和GC气相色谱仪分析化学过滤器前后浓度,确保化学过滤器的过滤性能有效且高效,保证半导体及面板厂洁净室内的气态分子污染物(AMC)的浓度尽量恒定而且低于控制标准,而且能指导厂商和业主针对不断升级的制程进一步降低气态分子污染物(AMC)的种类及其控制浓度。

  

美埃

丨関連情報

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

美埃は、半導体空気清浄の分野に焦点を当て、ハイレベルの清浄度の実現へ

過去50年間に、集積回路のコアテクノロジーは1971年の10マイクロメートル(μm)から現在の7ナノメートル(nm)に大幅に縮小し、さらに3nmノードにまで実現する可能性もあります。半導体ウェーハの重要な寸法は徐々に小型化されるにつれ、クリーンルーム環境の清浄度に対する要求も厳しくなっています。ガス状分子汚染物質(AMC)は、工業プロセスの生産性に影響を与える要因の1つとして、粒子状汚染物質に徐々に取って代わっています。 AMCは、多くの潜在的なプロセス上の問題を引き起こすおそれがあります。たとえば、酸性ガス(MA)は、腐食性があるので、ウェーハ上の金属膜を侵食し、ピット、オープンライン、短絡、漏電などを引き起こします。そして、アルカリガス(MB)としてのアンモニアガスはリソグラフィパターン欠陥、及び フォトレジストラインの上部にTトッピングになることを招きます。凝縮性有機ガス(MC)がシリコンウェーハの表面に付着しがちになり、薄膜と表面分子汚染(SMC)を形成させ、フォトレジスト層、スパッタ層、PVD層またはCVD層にはサンドイッチ構造を形成させます。 さらに、シリコン、リン、ホウ素などを含む揮発性VOC(シロキサン、有機リン酸塩など)は、シリコンウェーハの表面、リソグラフィーレンズまたはリソグラフィープレートにしっかりと吸着されたら、それを除去することが困難になる、又はまったく除去できないので、リソグラフィーエンジニアによって処理困難の難治性化合物(refractory compound)と呼ばれています。 有機リン酸塩などのドーピングガス(MD)は、シリコンウェーハの表面に吸着され、加熱後、無機リン酸塩に分解されてドーパントに生成され、望ましくないn型ドーピングと電圧ドリフトをよく引き起こします。 半導体の製造工程には精密なマイクロエレクトロニクスシステムやICが含まれており、製造環境の清浄度に対する要求は特に厳しいので、製造工程全体は厳密に管理された環境条件、つまりクリーンルームの中に行われています。 クリーンルームの清浄度を維持するために、半導体クリーンワークショップでは通常、垂直・単一方向フロー方式を利用して、押し出し作用によって汚染された空気を室外に排出することで、室内空気を浄化することができます。 クリーンルームの空気清浄は、主に以下の3つの段階に分けられます。最初の段階では空調ボックス内のプレフィルター、ジュニア効率フィルター、シニア効率フィルター、薬剤フィルターを介して、屋外からの空気を段階的にろ過し、異物、浮遊物、直径0.3μmを超える粒子、および大気中の化学汚染物質を段階的に除去しています。 第二段階では、ファンフィルターユニットと、内蔵式(または外付け)のシニア効率、超シニア効率フィルター、および薬剤フィルター(プロセス上必要な場合)を介して、クリーンルーにに安定した空気層流を押し出し、クリーンルームの空気を極めて高い清浄度基準に浄化します。 第三段階では、クリーンルームの還気は、上げ床と給気ダクト(または還気管)を通ってファンフィルターユニットに送られ、シニア効率、超シニア効率フィルター、薬剤フィルターで濾過されて、リサイクルのためにクリーンルームに送られます。 MayAir半導体クリーンワークショップの主な構造と主な製品の運用プロセスの概略図は次のとおりです。 外気は、多段式エアフィルター(No.1〜4)で段階的にろ過された後、クリーンルームの内部循環系に入ります。 その後、シニア効率・超シニア効率フィルターとオプションの薬剤フィルター(No.5、6、7)を備えたファンフィルターユニットを介して、安定した層流でクリーンルーム内に清浄な空気を送ります。ファンフィルターユニットの中断しない動作によって作業エリアの清浄度を維持します。 特定の機器又は清浄度要求が比較的に高い作業エリアでは、浄化ブースとEFU(No.8、9)の組み合わせによりクリーンルーム内の空気をさらに浄化し、より高いレベルの局所清浄度を実現します。 MayAirは2005年に成都smicsの独自ブランドのFFU注文を初めて受けて以来、中国の半導体産業の発展を何度も支援しており、ハイエンドのクリーンルームの分野で重要な位置を占めています。
Date : 2021-07-22 点击 : 0

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